印度在美国领事馆推出Passport Seva项目

印度政府在美国的主要领事馆上启动了一项倡议，以简化整体护照申请程序，并减少申请人的周转时间为10天至48小时或更短。

Passport Seva项目（PSP）在美国打印印度护照，并为申请人减少了周转。

休斯敦驻印度领事馆曾在休斯敦举行的PSP以及由国务部长为外部事务部长的团队，一般（RTD）V K Singh。

该团队已在美国推出印度大使馆，华盛顿特区和五个领事馆的项目 - 亚特兰大，芝加哥，休斯顿，纽约和旧金山。

上周，PSP在纽约推出。该计划将由外部事务部（MEA）在华盛顿印度大使馆举行，尤其是亚特兰大领事馆。

它旨在在未来15天内在美国的所有大使馆/领事馆期间运作。

Surendra Adhana由印度外交部高级官员加入的Surendra Adhana，A K Singh over over在当场使用该项目印刷的第一张护照。

“早些时候，护照申请在休斯顿领事馆处理，而印刷则在印度进行。整个过程用于大约需要6-10天。现在，随着项目的推出，所有护照将在本地印刷，这将大大简化整体程序，减少周转时间，“Adhana告诉PTI。

“新系统旨在提高申请人在提交其应用程序，迎来标准化，数字大修，端到端状态跟踪和增强安全性方面的经验。该项目还将领事馆数据库与中央数据库联系起来，使申请流程甚至更快，“Adhana表示。